加熱制冷循環(huán)器MD40-20$n提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度±0.05℃。
低溫冷卻液循環(huán)泵(-20℃~室溫)$n低溫冷卻循環(huán)裝置采用PID微機(jī)智能控制系統(tǒng),全封閉壓縮機(jī)制冷,主要有壓縮機(jī)、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵幾大件組成,具有提供低溫液體、低溫水浴的作用;整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.5℃,用于石油化工、制藥、半導(dǎo)體工業(yè)、凍土研究及土木工程等領(lǐng)域內(nèi)的低溫和超低溫過(guò)程控制,科學(xué)研究和工程應(yīng)用,化學(xué)反應(yīng)、試驗(yàn)、測(cè)量、校準(zhǔn)、人工凍結(jié)及環(huán)境條件模擬等。
低溫恒溫循環(huán)槽 MD20-20可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用。
超低溫恒溫槽(-60℃~90℃)應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用,可以提供熱冷受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃。
超低溫加熱制冷器(-80℃~90℃) 超低溫加熱制冷器應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用,可以提供熱冷受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃。
低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~90℃),MD20-12,容積12L,控溫范圍-20℃~90℃,高至溫度100℃,作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)使用.
低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~90℃)可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用。
低溫恒溫循環(huán)槽MD10-8 低溫恒溫槽提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度±0.05℃。
低溫恒溫水槽-5℃~90℃,MD5-30提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度±0.05℃。
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